Materials Studio 2020版(建筑材料仿真建模)

Materials Studio 2020是美國(guó)Accelrys公司專(zhuān)門(mén)為材料科學(xué)領(lǐng)域研究者開(kāi)發(fā)的一款可運(yùn)行在PC上的全尺度材料模擬平臺(tái)，可幫助研究者解決當(dāng)今化學(xué)、材料工業(yè)中一系列重要問(wèn)題，可更方便地建立三維結(jié)構(gòu)模型，并可對(duì)各種晶體、無(wú)定型以及高分子材料的性質(zhì)及相關(guān)過(guò)程進(jìn)行深入的研究，其被廣泛應(yīng)用于石化、化工、制藥、食品、石油、電子、汽車(chē)和航空航天等工業(yè)及教育研究部門(mén)，可以說(shuō)在上述領(lǐng)域中具有較大影響力的世界主要跨國(guó)公司及著名研究機(jī)構(gòu)幾乎都是aterials Studio產(chǎn)品的用戶(hù)。Materials Studio 2017具有多種先進(jìn)算法的綜合應(yīng)用，這些應(yīng)用使得能夠進(jìn)行強(qiáng)有力的模擬操作，模擬的內(nèi)容包括催化劑、聚合物、固體及表面、晶體與衍射、化學(xué)反應(yīng)等材料和化學(xué)研究領(lǐng)域，無(wú)論是構(gòu)型優(yōu)化、性質(zhì)預(yù)測(cè)和X射線(xiàn)衍射分析，還是復(fù)雜的動(dòng)力學(xué)模擬和量子力學(xué)計(jì)算，您都能在這里通過(guò)一些簡(jiǎn)單易學(xué)的操作來(lái)得到切實(shí)可靠的數(shù)據(jù)。Materials Studio 2017采用用戶(hù)極為熟悉的Microsoft標(biāo)準(zhǔn)用戶(hù)界面，它允許用戶(hù)通過(guò)各種控制面板直接對(duì)計(jì)算參數(shù)和計(jì)算結(jié)果進(jìn)行設(shè)置和分析，并擁有大量的功能模塊，包括Materials Visualizer、Discover、Amorphous Cell、Amorphous Cell等。
新版Materials Studio 2017加入了研究化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的新模塊Cantera，且著重優(yōu)化了CASTEP模板，包括CASTEP計(jì)算Raman光譜的效率大幅提升；支持自定義構(gòu)建新的交換相關(guān)泛函以及提高稀土、重金屬元素及相關(guān)體系的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)計(jì)算精度。同時(shí)在DFTB+模塊中，它添加了多個(gè)新的slater-koster庫(kù)文件，并支持計(jì)算力學(xué)性質(zhì)，得到彈性常數(shù)矩陣、體模量，剪切模量，楊氏模量等力學(xué)性質(zhì)。

顯示問(wèn)題

1、問(wèn)題詳情
當(dāng)建利晶胞的時(shí)候，只顯示坐標(biāo)軸，而不顯示整個(gè)晶胞，當(dāng)我移動(dòng)圖形是有顯示，松開(kāi)鼠標(biāo)時(shí)又變成圖中樣子，這個(gè)問(wèn)題如何解決
2、解決方法
在非晶體區(qū)單擊右鍵，然后選擇display style，選擇lattice,最后把對(duì)話(huà)框右下角的label axes復(fù)選框去掉就可以正常顯示

新功能

加入研究化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的新模塊Cantera
CASTEP計(jì)算Raman光譜的效率大幅提升
CASTEP中支持自定義構(gòu)建新的交換相關(guān)泛函
CASTEP中OTFG Norm-conserving 贗勢(shì)覆蓋鑭系錒系元素，提高稀土、重金屬元素及相關(guān)體系的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)計(jì)算精度
CASTEP支持硬度計(jì)算功能
CASTEP支持計(jì)算電子順磁共振（EPR）的g-tensor
DMol3新增泛函Hartree-Fock
DMol3支持硬度計(jì)算功能
DFTB+添加多個(gè)新的slater-koster庫(kù)文件
DFTB+支持計(jì)算力學(xué)性質(zhì)，得到彈性常數(shù)矩陣、體模量，剪切模量，楊氏模量等力學(xué)性質(zhì)
ONETEP增加了隱性溶劑化模型，高效計(jì)算大體系在溶液環(huán)境下的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)
GULP增加適合研究鋰電池的新力場(chǎng)ReaxFF Li
Visualizer中快速調(diào)整結(jié)構(gòu)的功能按鈕clean，擴(kuò)展至周期性結(jié)構(gòu)
MS2017 R2結(jié)合Pipeline Pliot可直接計(jì)算合金的與溫度相關(guān)的力學(xué)性質(zhì)；合金的熱導(dǎo)聚合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度
聚合物的交聯(lián)結(jié)構(gòu)
聚合物的機(jī)械性質(zhì)

功能模塊

1、Materials Visualizer
提供了搭建分子、晶體及高分子材料結(jié)構(gòu)模型所需要的所有工具，可以操作、觀察及分析結(jié)構(gòu)模型，處理圖表、表格或文本等形式的數(shù)據(jù)，并提供軟件的基本環(huán)境和分析工具以及支持Materials Studio的其他產(chǎn)品。是Materials Studio產(chǎn)品系列的核心模塊
2、Discover
Materials Studio的分子力學(xué)計(jì)算引擎。使用多種分子力學(xué)和動(dòng)力學(xué)方法，以仔細(xì)推導(dǎo)的力場(chǎng)作為基礎(chǔ)，可準(zhǔn)確地計(jì)算出最低能量構(gòu)型、分子體系的結(jié)構(gòu)和動(dòng)力學(xué)軌跡等
3、COMPASS
支持對(duì)凝聚態(tài)材料進(jìn)行原子水平模擬的功能強(qiáng)大的力場(chǎng)。是第一個(gè)由凝聚態(tài)性質(zhì)以及孤立分子的各種從頭算和經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)等參數(shù)化并經(jīng)驗(yàn)證的從頭算力場(chǎng)?？梢栽诤艽蟮臏囟取毫Ψ秶鷥?nèi)精確地預(yù)測(cè)孤立體系或凝聚態(tài)體系中各種分子的結(jié)構(gòu)、構(gòu)象、振動(dòng)以及熱物理性質(zhì)
4、Amorphous Cell
允許對(duì)復(fù)雜的無(wú)定型系統(tǒng)建立有代表性的模型，并對(duì)主要性質(zhì)進(jìn)行預(yù)測(cè)。通過(guò)觀察系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和性質(zhì)之間的關(guān)系，可以對(duì)分子的一些重要性質(zhì)有更深入的了解，從而設(shè)計(jì)出更好的新化合物和新配方?？梢匝芯康男再|(zhì)有：內(nèi)聚能密度（CED）、狀態(tài)方程行為、鏈堆砌以及局部鏈運(yùn)動(dòng)等
5、Reflex
模擬晶體材料的X光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜。可以幫助確定晶體的結(jié)構(gòu)，解析衍射數(shù)據(jù)并用于驗(yàn)證計(jì)算和實(shí)驗(yàn)結(jié)果。模擬的圖譜可以直接與實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)比較，并能根據(jù)結(jié)構(gòu)的改變進(jìn)行即時(shí)的更新。包括粉末衍射指標(biāo)化及結(jié)構(gòu)精修等工具
6、Reflex Plus
是對(duì)Reflex的完善和補(bǔ)充，在Reflex標(biāo)準(zhǔn)功能基礎(chǔ)上加入了已被廣泛驗(yàn)證的Powder Solve技術(shù)。Reflex Plus提供了一套可以從高質(zhì)量的粉末衍射數(shù)據(jù)確定晶體結(jié)構(gòu)的完整工具
7、Equilibria
可計(jì)算烴類(lèi)化合物單組分體系或多組分混合物的相圖，溶解度作為溫度、壓力和濃度的函數(shù)也可同時(shí)得到，還可計(jì)算單組分體系的virial系數(shù)。適用領(lǐng)域包括石油及天然氣加工過(guò)程（如凝析氣在高壓下的性質(zhì)）、石油煉制（重?zé)N相在高壓下的性質(zhì)）、氣體處理、聚烯烴反應(yīng)器（產(chǎn)物控制）、橡膠（作為溫度和濃度的函數(shù)的不同溶劑的溶解度）
8、DMol3
獨(dú)特的密度泛函（DFT）量子力學(xué)程序，是唯一的可以模擬氣相、溶液、表面及固體等過(guò)程及性質(zhì)的商業(yè)化量子力學(xué)程序，應(yīng)用于化學(xué)、材料、化工、固體物理等許多領(lǐng)域?？捎糜谘芯烤啻呋⒍嘞啻呋?、分子反應(yīng)、分子結(jié)構(gòu)等，也可預(yù)測(cè)溶解度、蒸氣壓、配分函數(shù)、熔解熱、混合熱等性質(zhì)
9、CASTEP
先進(jìn)的量子力學(xué)程序，廣泛應(yīng)用于陶瓷、半導(dǎo)體、金屬等多種材料，可研究：晶體材料的性質(zhì)（半導(dǎo)體、陶瓷、金屬、分子篩等）、表面和表面重構(gòu)的性質(zhì)、表面化學(xué)、電子結(jié)構(gòu)（能帶及態(tài)密度）、晶體的光學(xué)性質(zhì)、點(diǎn)缺陷性質(zhì)（如空位、間隙或取代摻雜）、擴(kuò)展缺陷（晶粒間界、位錯(cuò)）、體系的三維電荷密度及波函數(shù)等